بررسي حذف فنل از محلول آبي با استفاده از فناوري هاي اکسيداسيون فتوشيميايي پيشرفته

جمشيدي ناصر*,ترابيان علي,عظيمي علي اكبر,نبي بيدهندي غلام رضا,جعفرزاده محمدتقي

* شركت پتروشيمي اروميه



اکثر ترکيبات آلي نسبت به تصفيه هاي شيميايي و بيولوژيکي متداول مقاوم هستند. بنابراين روشهاي ديگري به عنوان جايگزين فرايندهاي فيزيکي شيميايي و بيولوژيکي کلاسيک مورد مطالعه و تحقيق قرار گرفته اند. در اين تحقيق، فناوري هاي اکسيداسيون فتوشيميايي پيشرفته شامل UV/H2O2/Fe (III)، UV/H2O2/Fe (II)، UV/H2O2 و UV براي حذف فنل در محلول آبي در مقياس آزمايشگاهي مورد بررسي و آزمايش قرار گرفت. از يک لامپ فرابنفش جيوه اي فشار متوسط 300 وات به عنوان منبع تابش و از پراکسيد هيدروژن 30 درصد به عنوان ماده اکسيد کننده و از فنل با غلظت اوليه 0.5 ميلي مول در ليتر به دليل کاربرد و مصرف زياد به عنوان مدل استفاده گرديد. براي بررسي عوامل موثر مانند pH، غلظت پراکسيد هيدروژن، غلظت و نوع نمک آهن و زمان تابش نور UV، آزمايش ها بر اساس روشهاي استاندارد، آناليز گرديدند. نتايج آزمايش ها نشان داد فرايند فتوفنتون موثرترين فرايند تصفيه تحت شرايط اسيدي بوده و داراي سرعت بيشتر تصفيه فنل در زمان تابش خيلي کم است. سرعت اکسيداسيون در اين فرايند 4 تا 5 بار بيشتر از فرايند UV/H2O2 مي باشد. شرايط بهينه براي فرايند فتوفنتون، مقدار pH برابر 3، نسبت مولي H2O2/Phenol برابر 11.61 و نسبت مولي Iron/H2O2 براي سيستم هاي UV/H2O2/Fe (II) و UV/H2O2/Fe (III) به ترتيب 0.083 و 0.067 به دست آمد.

كليد واژه: اکسيداسيون فتوشيميايي پيشرفته، فتوفنتون، فنل، محلول آبي



[تنها کاربران عضو سايت قادر به مشاهده لينک ها هستند. ]